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2012年6月15日-切(qie)割時,微晶層(ceng)向(xiang)上,瓷質(zhi)體層(ceng)在下(xia)面(mian),進刀速度每分鐘小(xiao)于(yu)0.8米(mi),切(qie)開后(hou)不超過依諾磁磚微晶石厚(hou)度;如果要對倒(dao)角進行拋光(guang)處理,必須(xu)要用專業設(she)備加工。

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