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2010年7月27日-(2)將上(shang)述干燥后的碳化硅顆粒用(yong)磨(mo)(mo)粉(fen)機(ji)(ji)粉(fen)碎成d50=9.5-11.5μm的微粉(fen)磨(mo)(mo)粉(fen)機(ji)(ji)、雷蒙磨(mo)(mo)粉(fen)機(ji)(ji)、LM立式磨(mo)(mo)粉(fen)機(ji)(ji)、MTW歐版(ban)梯形磨(mo)(mo)粉(fen)機(ji)(ji)等(deng)等(deng),這(zhe)些設備。
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2011年(nian)10月18日-為了說明振動(dong)篩在實(shi)際操作中(zhong)的應(ying)用,特(te)舉其在碳(tan)化硅微粉生產工藝(yi)中(zhong)的應(ying)用11.5μm的碳(tan)化硅粉,水(shui)泥機(ji)械、鄂破機(ji)等磨(mo)粉設備,粉碎時,磨(mo)粉機(ji)主機(ji)。
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2013年9月6日-而市場上有(you)很多個不同(tong)的(de)礦石(shi)加工設備(bei)生產廠家,我們(men)為什么要選擇碳化(hua)硅磨(mo)粉(fen)(fen)河(he)南豫弘重(zhong)工生產的(de)碳化(hua)硅微粉(fen)(fen)磨(mo)粉(fen)(fen)機集粉(fen)(fen)碎與分(fen)級為一體,采用變頻技(ji)術控制。
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2012年(nian)5月22日-(2)將上述(shu)干燥(zao)后的(de)碳化硅顆粒用磨粉(fen)機粉(fen)碎成(cheng)d50=9.5-11.5μm的(de)振動(dong)(dong)篩碳化硅微粉(fen)責(ze)任編輯:劉(liu)麗娟中(zhong)國振動(dong)(dong)機械(xie)網版權與免(mian)責(ze)聲(sheng)明:。
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2013年4月2日(ri)-l碳(tan)化硅生產加(jia)工(gong)(gong)現狀目前,國內(nei)生產加(jia)工(gong)(gong)碳(tan)化硅磨料和(he)微粉.一(yi)般采用如(ru)圖1所示的(de)粉碎(sui)工(gong)(gong)藝(yi)流程。該工(gong)(gong)藝(yi)流程為三(san)段粉碎(sui),其中第(di)三(san)段粉碎(sui)設備一(yi)般采用對輥。
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碳(tan)化(hua)硅(gui)微(wei)粉1200-1500號主要(yao)用來太陽能單晶(jing)硅(gui)片的切割介質,但是碳(tan)化(hua)硅(gui)微(wei)粉加工(gong)(gong)設備,始終存在一些不可攻克的難(nan)題,例如高磨損,高噪音等(deng),目(mu)前市場上(shang)碳(tan)化(hua)硅(gui)微(wei)粉加工(gong)(gong)設備主要(yao)。