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2008年6月27日-以(yi)往(wang)國內生產制造立(li)方碳化硅(gui)(β-SiC)還(huan)有(you)(you)一種(zhong)方法,是以(yi)冶煉普(pu)通碳化硅(gui)其燒結(jie)試塊(kuai)與普(pu)通砂(sha)輪對磨,試塊(kuai)的(de)失重量只(zhi)有(you)(you)砂(sha)輪失重量的(de)1/49.5,顯示。
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2007年10月22日-訪十(shi)七大代表(biao)碳化硅專家張立同(tong)院士(shi)新(xin)聞來(lai)源:中國(guo)研磨(mo)網發(fa)布日期:2007-10MSN:abrasive_#hotmail.(請將#改(gai)為@)研磨(mo)群:普磨(mo)及制品(。
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2012年7月19日-據日經(jing)BP社報道(dao),精工(gong)(gong)技研(yan)公(gong)司近日確立了能實現高(gao)速、高(gao)精度研(yan)磨加工(gong)(gong)而備受關注的(de)新一代(dai)半導體底板材(cai)料——碳化(hua)硅(SiC)晶圓的(de)技術。目前已經(jing)開始面向研(yan)究(jiu)。
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