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研磨技術(一)-《上海機械》1964年06期

平面(mian)研(yan)磨(mo)(mo)(mo)機(ji)所(suo)使(shi)用(yong)的游離磨(mo)(mo)(mo)粒(li)加工(gong)技術是一種有著悠久歷史、不斷發展的加工(gong)方法,在這種加工(gong)中,所(suo)使(shi)用(yong)的研(yan)磨(mo)(mo)(mo)劑、研(yan)磨(mo)(mo)(mo)液(ye)、拋(pao)光液(ye)等(deng)中的磨(mo)(mo)(mo)粒(li)、微粉都是呈現(xian)出游離的。

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這項技術可研(yan)(yan)磨(mo)硅片和碳硅硬質合金(jin)特硬表(biao)面表(biao)面糙度1.5納米以(yi)下(xia)。比(bi)以(yi)前的(de)研(yan)(yan)磨(mo)技術提高10倍。過去(qu)認為金(jin)剛石(shi)不可能研(yan)(yan)磨(mo)。此項技術不僅可以(yi)研(yan)(yan)磨(mo)金(jin)剛石(shi),而且預(yu)期在。

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2012年(nian)8月21日-3、第三種比較少見(jian)研(yan)磨(mo)技術:延(yan)時(shi)破碎拋光技術,研(yan)磨(mo)劑呈玻珠(zhu)圓狀,不會造成(cheng)二次研(yan)磨(mo)劃痕,同時(shi)漆面溫度較低;當拋光毛球高速運轉與研(yan)磨(mo)劑產(chan)生一定。

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2012年(nian)10月4日-當前(qian)平面研(yan)磨(mo)(mo)機高精(jing)密研(yan)磨(mo)(mo)加工的精(jing)度從(cong)微米到亞微米,乃納米,在汽車、家電、IT電子(zi)信息高技術領域和軍用、民(min)用工業(ye)有廣泛應(ying)用。

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