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其次(ci),使(shi)用顎式(shi)破碎(sui)機(ji)(ji)、布朗研磨機(ji)(ji)、搗磨機(ji)(ji)等的(de)粗粉碎(sui)機(ji)(ji)以成(cheng)為10100μm的(de)粒徑的(de)形式(shi)粉碎(sui)(粗粉碎(sui))該合金之(zhi)后,更進一步由噴射研磨機(ji)(ji)、超微磨碎(sui)機(ji)(ji)(attritor)等。

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[圖文(wen)]論文(wen):以(yi)筆者(zhe)在研(yan)磨機銷售業務數年的(de)(de)經驗來看(kan),納米研(yan)磨的(de)(de)主(zhu)要(yao)應用(yong)領域可(ke)以(yi)以(yi)1998年為區分點。1998年以(yi)前(qian),企業界(jie)所面臨(lin)的(de)(de)問(wen)題為如何提高分散(san)研(yan)磨效率以(yi)降低勞力成本(ben),。

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選擇適(shi)當助劑以避(bi)免粉(fen)體再次(ci)凝聚及(ji)選擇適(shi)當的研磨(mo)機來控制研磨(mo)漿料溫度以降低或避(bi)免布(bu)朗(lang)運動影響,是濕(shi)法研磨(mo)分散方法能否成(cheng)功地得到(dao)納米(mi)級粉(fen)體研磨(mo)及(ji)分散關鍵技術。

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主相系合金和(he)晶界相合金,經過(guo)氫脆粉碎、在N2氣(qi)(qi)或Ar氣(qi)(qi)等惰性(xing)氣(qi)(qi)體中(zhong)(zhong)利用布(bu)朗(lang)式(shi)(Brown)磨(mo)碎機(ji)粉碎約0.5mm以下(xia)的中(zhong)(zhong)粉碎、在N2氣(qi)(qi)或Ar氣(qi)(qi)等惰性(xing)氣(qi)(qi)體中(zhong)(zhong)利用噴射(she)式(shi)。

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或用(yong)振(zhen)動磨(mo)碎(sui)(sui)機得(de)到的粉體,在提高燒結(jie)密度以(yi)取得(de)高磁致伸縮特性方(fang)面,具有燒結(jie)首(shou)先,用(yong)鄂式(shi)破碎(sui)(sui)機粗粉碎(sui)(sui),然后用(yong)布朗式(shi)磨(mo)碎(sui)(sui)機微粉碎(sui)(sui)直(zhi)平均粒(li)徑為(wei)100~1500μ。

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目前,國(guo)內使用研(yan)磨機(ji)的(de)種類比較多,但(dan)是為(wei)了提高研(yan)磨加工效(xiao)率,雙面研(yan)磨機(ji)已經取代1876年在(zai)巴黎博覽會展出(chu)的(de)美國(guo)布朗(lang)-夏普公司制造(zao)的(de)外圓磨床,是具(ju)有現代。

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在(zai)做(zuo)納米粉體分(fen)散(san)或研磨(mo)時,因為(wei)粉體尺(chi)度由(you)大變小的(de)過程中,范德華力及(ji)布(bu)朗運動(dong)現象(xiang)逐漸明顯且重要。選擇適當(dang)助劑以(yi)避免粉體再次凝聚(ju)及(ji)選擇適當(dang)的(de)研磨(mo)機來(lai)控制研磨(mo)。

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[圖文]2011年5月31日-范德華力(li)效應及布(bu)朗運動變得明顯,粉體因(yin)非常容易再度凝聚在一起,所以不管單靠研磨機(ji)(ji)的機(ji)(ji)械力(li)量來做(zuo)分散(san)研磨,一般只能分散(san)研磨到300800nm。

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