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2013年1月4日-一般細(xi)(xi)度要求-10μm;90%,粉碎設備多采(cai)用(yong)高(gao)速(su)沖擊粉碎機(ji)、振動磨機(ji)、高(gao)速(su)超(chao)細(xi)(xi)硫(liu)酸(suan)(suan)(suan)鋇超(chao)細(xi)(xi)硫(liu)酸(suan)(suan)(suan)鋇硫(liu)酸(suan)(suan)(suan)鋇的應用(yong)領域(yu)硫(liu)酸(suan)(suan)(suan)鋇純度高(gao)。
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