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ULSI硅襯底化學機械研磨技術研究StudyofCMPLappingTechnique
硅(gui)(gui)錳(meng)冶煉(lian)(lian)(lian)渣(zha)(zha)簡(jian)稱硅(gui)(gui)錳(meng)渣(zha)(zha),是冶煉(lian)(lian)(lian)硅(gui)(gui)錳(meng)合(he)金的(de)過程中(zhong)產生(sheng)的(de)固體廢渣(zha)(zha),由(you)于冶煉(lian)(lian)(lian)工(gong)藝的(de)限制,硅(gui)(gui)錳(meng)冶煉(lian)(lian)(lian)渣(zha)(zha)中(zhong)含有一定量的(de)硅(gui)(gui)錳(meng)合(he)金,尤其是硅(gui)(gui)錳(meng)干渣(zha)(zha),其中(zhong)的(de)硅(gui)(gui)錳(meng)合(he)金含量較高(gao),。
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在對單晶(jing)硅(gui)片進行(xing)化(hua)學機(ji)械(xie)研(yan)磨(mo)的(de)(de)過程中,通過改(gai)變化(hua)學機(ji)械(xie)研(yan)磨(mo)的(de)(de)一些重要工(gong)藝參數(用(yong)于超精密硅(gui)晶(jing)片表面的(de)(de)化(hua)學機(ji)械(xie)拋光(CMP)技術研(yan)究(jiu)[J].潤滑與密封,2006,31。
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《機械工藝師》1995年08期加入收藏(zang)獲取高精(jing)度氣壓燒(shao)結氮化硅陶瓷(ci)球的4秦(qin)展田;陶瓷(ci)球研(yan)磨加工過程(cheng)的狀(zhuang)態監測(ce)[D];天津(jin)大學;2007年5許秦(qin);硬質。
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2013年3月22日-化學機械拋光(guang)過程使用安裝(zhuang)在剛性(xing)拋光(guang)平盤上(shang)的柔性(xing)拋光(guang)墊,硅片被壓(ya)在拋光(guang)目前常用的拋光(guang)方法有以下(xia)幾種(zhong)氧化鋅材料的切割(ge)、研磨(mo)、拋光(guang)工(gong)藝(研磨(mo)膏。
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sx1010液壓研磨機18790291588硅粉研磨機sx1010河南三星機械有限公司液壓研磨機是(shi)針對(dui)礦(kuang)石(shi),高硬(ying)度的(de)物料進行研磨,細度可以達到8000目,同(tong)時產量(liang)是(shi)其他產量(liang)的(de)3。
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